[发明专利]雾面转印膜结构

摘要

本发明涉及一种雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层、一离型层、一第一硬化膜层、一饰纹层、一第二硬化膜层以及一黏着膜层。基底薄膜层包括由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面，离型层设置于基底薄膜层的上表面，第一硬化膜层设置于离型层的上表面，硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，饰纹层设置于第一硬化膜层的上表面，第二硬化膜层设置于饰纹层的上表面，黏着膜层设置于饰纹层的上表面。本发明可精简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时、降低成本等功效。同时，还可维持硬化膜层的完整性，保持膜层结构强度，并可防止黏着膜层的胶水向下渗漏，破坏饰纹层的图纹，提高产品的品质。

主权项

雾面转印膜结构，其特征在于包括：一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。