[发明专利]一种平面波导叠加型光栅的制作方法

摘要

本发明涉及一种平面波导叠加型光栅的制作方法，利用光敏性材料制作高折射率平面波导叠加型光栅，通过溶胶凝胶法制作高掺杂锡平面波导用以解决多组光栅之间折射率差太小的问题；通过相位掩膜技术在平面波导中写入叠加光栅，改善反射光波长单一情况。此制作方法在不改变WDM器件模块化的基础上，反射光波长间隔减小、各信道之间无串扰，提高解波分复用的性能，可以广泛应用于光通讯和航空航天领域，为实现通讯网络的高速度大容量的需求打下了坚实的基础。

主权项

一种平面波导叠加型光栅的制作方法，其特征在于，包括具体步骤如下：1）溶胶‑凝胶法制备高掺Sn二氧化硅平面波导：首先分别制备出二氧化硅和二氧化锡溶胶，然后把二氧化硅溶胶和二氧化锡溶胶按照比例混合，再将其搅拌，并在恒温下回流，之后老化24小时，得到均匀透明的二氧化硅二氧化锡溶胶，之后再通过微孔过滤，得到可以制膜的溶胶，最后采用提拉法或旋涂法将溶胶涂敷于石英玻璃基底上，得到波导器件；2）对平面波导写入光栅：紫外光通过相位掩模板，并照在下方的平面波导器件上，受光照的区域折射率形成永久性变化，没受光照的区域形成折射率周期性调制；3）写入叠加光栅：使用多次曝光的方法写入，每次曝光使用相同规格的掩模板，但在每次曝光时都要改变曝光角度，使得反射光谱彼此分开，曝光的次数等同于光栅的组数。