[发明专利]一种轴瓦的基底层有效
| 申请号： | 201010506167.7 | 申请日： | 2010-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN101994762A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 刘会学 | 申请（专利权）人： | 湖北宏鑫复合材料有限公司 |
| 主分类号： | F16C33/12 | 分类号： | F16C33/12 |
| 代理公司： | 广州市一新专利商标事务所有限公司 44220 | 代理人： | 王德祥 |
| 地址： | 435200 湖北省黄石市阳*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种轴瓦的基底层，其特征在于：所述轴瓦的基底层是由设置在轴瓦钢背层上的CuSn8InNi合金构成，按重量百分含量计算，CuSn8InNi合金各元素的配比是：Sn：7-9%，In：0.6-2%，Ni：0.6-2%，其余为Cu。本发明轴瓦的基底层具有耐腐蚀性高、抗疲劳强度高、耐磨性优良且环保的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 轴瓦 基底 | ||
【主权项】：
一种轴瓦的基底层，其特征在于：所述轴瓦的基底层是由设置在轴瓦钢背层上的CuSn8InNi合金构成，按重量百分含量计算，CuSn8InNi合金各元素的配比是：Sn：7‑9%，In：0.6‑2%，Ni：0.6‑2%，其余为 Cu。
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