[发明专利]光学物品、光学物品的制造方法以及电子设备有效
| 申请号： | 201010503270.6 | 申请日： | 2010-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN102043173A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 古里大喜 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11;G02B5/28 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学物品、光学物品的制造方法以及电子设备。作为课题，提供防尘性能高的光学物品。防尘玻璃(10)在基板(1)上具有由多个层构成的无机薄膜(2)，其中，无机薄膜(2)层叠有多个氧化硅层(2A)和多个金属氧化物层(2B)，金属氧化物是包含锆、钽或钛中的任意一种的金属氧化物，在氧化硅层(2A)内具有低密度的氧化硅层和比该低密度的氧化硅层的密度高的高密度的氧化硅层，无机薄膜(2)的最表层(2S)是低密度的氧化硅层，无机薄膜(2)的最表层(2S)的表面粗糙度为0.55nm以上0.70nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 物品 制造 方法 以及 电子设备 | ||
【主权项】：
一种光学物品，该光学物品在基板上具有由多个层构成的无机薄膜，该光学物品的特征在于，所述无机薄膜层叠有多个氧化硅层和多个金属氧化物层，所述金属氧化物是包含锆、钽或钛中的至少任意一种的金属氧化物，在所述氧化硅层中混合存在有低密度的氧化硅层、或比该低密度的氧化硅层的密度高的高密度的氧化硅层中的任意一方，所述无机薄膜的最表层是所述低密度的氧化硅层，而且其表面粗糙度为0.55nm以上且0.70nm以下。
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