[发明专利]改善防焊开窗尺寸的曝光方法及实施该方法的曝光框无效

专利信息
申请号: 201010295826.7 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN102436148A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 张鸿明 申请(专利权)人: 川宝科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 代理人: 郑永康
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种改善防焊开窗尺寸的曝光方法及实施该方法的曝光框,其改善防焊开窗尺寸的曝光方法,包括下列步骤:将底片附着定位于曝光框内部;将基板置放定位于曝光框内部;令基板相对底片进行对位程序;对曝光框内部空间抽真空,底片与基板间因真空的形成,致使底片自然垂悬而贴靠于基板;将底片下压,确保底片与基板间无空气残留,且致使底片更加贴靠于基板;对密合度极高的底片与基板进行曝光程序;其曝光框,包括:一底座,设置有对位平台;一上框,将一框边枢设于该底座,并于该底座与框边间设置有第一气密胶条。本发明具有大幅增加底片与基板密合度以改善防焊开窗尺寸的功效,且方便更换底片。
搜索关键词: 改善 开窗 尺寸 曝光 方法 实施
【主权项】:
一种改善防焊开窗尺寸的曝光方法,其特征在于,其包括下列步骤:a).将底片附着定位于曝光框内部;b).将基板置放定位于曝光框内部;c).令基板相对底片进行对位程序;d).对曝光框内部空间抽真空,底片与基板间因真空的形成,致使底片自然垂悬而贴靠于基板;e).将底片下压,确保底片与基板间无空气残留,且致使底片更加贴靠于基板;f).对密合度极高的底片与基板进行曝光程序。
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