[发明专利]大曝光视场投影物镜有效
| 申请号： | 201010280581.0 | 申请日： | 2010-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102401980A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 武珩;黄玲;刘国淦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/06 | 分类号： | G02B13/06;G02B13/22;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种大曝光视场投影物镜，用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内，从所述物平面开始沿光轴依次设置：具有正光焦度的第一、第二、第三及第四透镜组，以及位于所述第二及第三透镜组之间的孔径光阑；所述各透镜组之间满足以下关系式：0.61＜f2/f1＜0.92(1)2.7＜f3/f4＜3.9 (2)其中：f1：第一透镜组的焦距；f2：第二透镜组的焦距；f3：第三透镜组的焦距；f4：第四透镜组的焦距。本发明使用较少的镜片完成1.6x放大倍率设计，半视场大小100mm，保证了足够的曝光光强，这些都满足了高产率光刻设备的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 视场 投影 物镜 | ||
【主权项】：
一种大曝光视场投影物镜，用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内，其特征在于从所述物平面开始沿光轴依次设置：具有正光焦度的第一、第二、第三及第四透镜组，以及位于所述第二及第三透镜组之间的孔径光阑；所述各透镜组之间满足以下关系式：0.61＜f2/f1＜0.922.7＜f3/f4＜3.9其中：f1：第一透镜组的焦距；f2：第二透镜组的焦距；f3：第三透镜组的焦距； f4：第四透镜组的焦距。
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