[发明专利]一种太阳能级硅晶体的热处理方法无效

专利信息
申请号: 201010271861.5 申请日: 2010-09-03
公开(公告)号: CN101942701A 公开(公告)日: 2011-01-12
发明(设计)人: 李乔;马远 申请(专利权)人: 浙江碧晶科技有限公司
主分类号: C30B33/02 分类号: C30B33/02;C30B29/06
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 312300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种太阳能级硅晶体的热处理方法,将硅晶体置入真空加热炉内,在硅晶体的热处理过程中,将保护气体通入真空加热炉内并流经硅晶体表面,所述的保护气体为:a)含氢原子的气体;或b)含氢原子的气体与惰性气体的混合物。采用本发明方法对硅晶体进行热处理后,由于H对硅晶体内杂质及缺陷的钝化和吸杂等作用,硅晶体的少子寿命明显提高,同时,调节了硅晶体的径向电阻率的分布均匀性,使硅晶体的电阻率在晶体半径方向上更加均匀。本发明方法操作简单,易于工业化生产,并能明显提高产品的质量。
搜索关键词: 一种 太阳 能级 晶体 热处理 方法
【主权项】:
一种太阳能级硅晶体的热处理方法,将硅晶体置入真空加热炉内,在硅晶体的热处理过程中,将保护气体通入真空加热炉内并流经硅晶体表面,所述的保护气体为:a)含氢原子的气体;或b)含氢原子的气体与惰性气体的混合物。
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