[发明专利]定位系统、光刻设备和方法有效
申请号: | 201010243767.9 | 申请日: | 2010-07-30 |
公开(公告)号: | CN101989050A | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | J·范埃基科;E·A·F·范德尔帕斯卡;J·P·M·B·沃麦尤伦 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 公开了一种定位系统、光刻设备和方法。具体地,公开了一种用以定位具有主体的可移动物体的定位系统。所述定位系统包括:物体位置传感器、物体致动器以及物体控制器,其中定位系统还包括加强构件,用以增大所述物体的主体的刚性和/或衰减所述物体的主体内的相对移动,所述加强构件包括:一个或更多个传感器,其中每个传感器布置成确定表示所述主体内的内部应变或相对位移的测量信号;一个或更多个致动器,其中每个致动器布置成施加致动力在所述主体的一部分上;以及至少一个控制器,配置成基于所述至少一个传感器的测量信号提供致动信号给所述至少一个致动器,以增大所述主体的刚性/或衰减所述主体内的移动。 | ||
搜索关键词: | 定位 系统 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种定位系统,其配置用以定位具有主体的可移动物体,所述定位系统包括:物体位置传感器,配置用以测量所述物体的位置量;物体致动器,配置成施加致动力在所述物体上;物体控制器,配置成基于所需位置量和所测得的位置量之间的差值提供用于所述致动器的物体致动信号;和加强构件,配置成增大所述物体的主体的刚性和/或衰减所述物体的主体内的相对移动,所述加强构件包括:传感器,配置用以确定表示所述主体内的内部应变或相对位移的测量信号,致动器,配置用以施加致动力在所述主体的一部分上,和控制器,配置用以基于所述传感器的测量信号提供致动信号给所述致动器,以增大所述主体的刚性/或衰减所述主体内的移动。
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