[发明专利]多色调光掩模的制造方法及图案转印方法有效

专利信息
申请号: 201010243191.6 申请日: 2010-07-28
公开(公告)号: CN101989042A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 吉田光一郎 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14;G03F7/20;G03F7/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟;吕俊刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供多色调光掩模的制造方法及图案转印方法。该多色调光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的预定转印图案,针对形成在要被蚀刻加工的被转印体上的抗蚀剂膜,转印预定图案,使抗蚀剂膜构成为抗蚀剂图案,该抗蚀剂图案成为蚀刻加工中的掩模,其中,该制造方法包括如下步骤:掌握抗蚀剂膜所使用的抗蚀剂相对于曝光光的抗蚀剂特性;根据抗蚀剂特性来确定半透光部相对于曝光光的实效透射率;以及根据实效透射率至少对形成在透明基板上的遮光膜进行构图,由此形成半透光部。
搜索关键词: 多色 调光 制造 方法 图案
【主权项】:
一种多色调光掩模的制造方法,该多色调光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的预定转印图案,针对形成在要被蚀刻加工的被转印体上的抗蚀剂膜,转印所述预定转印图案,使所述抗蚀剂膜构成为抗蚀剂图案,该抗蚀剂图案成为所述蚀刻加工中的掩模,其中,所述制造方法包括如下步骤:掌握所述抗蚀剂膜所使用的抗蚀剂相对于所述曝光光的抗蚀剂特性;根据所述抗蚀剂特性来确定所述半透光部相对于所述曝光光的实效透射率;以及根据所述实效透射率至少对形成在透明基板上的遮光膜进行构图,由此形成所述半透光部。
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