[发明专利]曝光装置、器件制造方法有效
| 申请号： | 201010240704.8 | 申请日： | 2004-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN102012641A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于包括：投影光学系统，将图形像投影到基板上；保持上述基板并且可以移动的可动构件；位置检测装置，检测上述可动构件的位置；和液体供给机构，将液体供给到上述投影光学系统与基板之间，上述液体供给机构在上述位置检测装置发生故障时停止液体的供给。
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