[发明专利]光刻设备和监控方法有效
| 申请号： | 201010239624.0 | 申请日： | 2010-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN101989049A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | B·J·克拉塞斯;P·范德维恩;H·P·高德福莱德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和监控方法，所述光刻设备包括辐射束监控设备，所述辐射束监控设备包括被配置以产生衍射图案的光学元件和成像检测器，所述成像检测器被设置在所述光学元件的后面，但不在所述光学元件的焦平面中，使得所述成像检测器能够检测所述辐射束的空间相干性和发散度的综合结果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 监控 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括辐射束监控设备，所述辐射束监控设备包括：光学元件，所述光学元件被配置以产生衍射图案；和成像检测器，所述成像检测器被设置在所述光学元件的后面，但不位于所述光学元件的焦平面中，使得所述成像检测器能够检测所述光刻设备的辐射束的空间相干性和发散度的综合结果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010239624.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：视频处理装置
- 下一篇：多色调光掩模的制造方法及图案转印方法
