[发明专利]光刻装置无效
| 申请号： | 201010233655.5 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101916041A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | P·R·M·亨努斯;J·J·S·M·梅坦斯;P·J·C·H·斯穆德斯;P·斯米特斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：位于基底台上的传感器，所述传感器被投影光束照射；以及位于传感器和基底台之间的液体密封结构；其中所述液体密封结构具有双层，其中顶层用作液体阻挡部分而底层用作不透液体的密封；所述底层具有密封结构，所述密封结构在一端与传感器连接，在另一端与基底台连接。
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