[发明专利]一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置有效
| 申请号： | 201010227864.9 | 申请日： | 2010-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102049716A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 郭隐彪;姜晨;杨炜;唐旎;潘日 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置，涉及一种压力装置。提供一种用于调节工件的抛光面在加工时所受的压强，不仅可改善工件的抛光质量和控制材料去除率，而且结构简单且实用的用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置。设有质量块和夹具平板。质量块作为压力源；夹具平板设有支杆、底座和吸附基模，支杆用于装载质量块，底座下部连接吸附基模，其中吸附基模设有基体和薄膜，底座通过吸附基模的薄膜吸附在工件表面，使得整个装置固定在工件的相应部位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 口径 平面 光学 元件 抛光 调式 压力 装置 | ||
【主权项】：
一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置，其特征在于设有质量块和夹具平板，质量块作为压力源；夹具平板设有支杆、底座和吸附基模，支杆用于装载质量块，底座下部连接吸附基模，其中吸附基模设有基体和薄膜，底座通过吸附基模的薄膜吸附在工件表面，使得整个装置固定在工件的相应部位。
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