[发明专利]信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质有效
| 申请号： | 201010226127.7 | 申请日： | 2010-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN101950565A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 田村昌彦;百濑彻;宫谷克明;中岛哲也 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;C03C23/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质，所述制造方法包含以下工序：对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序；和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序，其特征在于，含碱铝硅酸盐玻璃中的SiO2含量减Al2O3含量得到的差(SiO2-Al2O3)为62摩尔％以下；还包含以下工序：紧接着氧化铈抛光工序，使用硫酸浓度为20质量％以上且80质量％以下、过氧化氢浓度为1质量％以上且10质量％以下的清洗液在50℃以上且100℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序，和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。 | ||
| 搜索关键词： | 信息 记录 介质 玻璃 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包含以下工序：对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序；和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序，其特征在于，含碱铝硅酸盐玻璃中的SiO2含量减Al2O3含量得到的差(SiO2‑Al2O3)为62摩尔％以下，还包含以下工序：紧接着氧化铈抛光工序，使用硫酸浓度为20质量％以上且80质量％以下、过氧化氢浓度为1质量％以上且10质量％以下的清洗液在50℃以上且100℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序，和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。
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