[发明专利]形成隔离的敷形屏蔽区的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201010219317.6 申请日: 2010-06-22
公开(公告)号: CN101932223A 公开(公告)日: 2010-12-29
发明(设计)人: C·J·卡普斯塔;D·P·坎宁安 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H05K1/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;谭祐祥
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及形成隔离的敷形屏蔽区的系统和方法。公开了形成用于电气系统(12)的图案化的敷形结构(10)的系统和方法。该敷形结构包括定位在电气系统上的电介质涂层(18),该电气系统具有安装在其上的电路构件(16),该电介质涂层成形为符合电气系统的表面,并且在其中具有定位在电气系统的表面的接触垫(22)之上的多个开口(20)。该敷形结构还包括导电涂层(24),导电涂层铺设在电介质涂层上和接触垫(22)上,使得在导电涂层与接触垫之间形成电连接。电介质涂层和导电涂层具有通过其中而形成的多个交迭的路径开口(27),以便隔离期望的电路构件或电路构件组之上的敷形结构的相应的屏蔽区(26)。
搜索关键词: 形成 隔离 屏蔽 系统 方法
【主权项】:
一种敷形结构(10),包括:定位在电气系统(12)上的电介质涂层(18),所述电气系统(12)具有安装在该电气系统(12)上的电路构件(16),所述电介质涂层(18)成形为符合所述电气系统(12)的表面,并且在该电介质涂层(18)中具有定位在所述电气系统的表面上的接触垫(22)之上的多个开口(20);以及导电涂层(24),该导电涂层(24)铺设在所述电介质涂层(18)上和所述接触垫(22)上,使得在所述导电涂层(24)与所述接触垫(22)之间形成电连接;其中,所述电介质涂层(18)与所述导电涂层(24)具有通过它们形成的多个交迭的路径开口(27),以便隔离期望的电路构件(16)或电路构件(16)组之上的所述敷形结构的相应的屏蔽区(26)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司,未经通用电气公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010219317.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top