[发明专利]一种PVD真空离子镀膜的方法无效
| 申请号： | 201010208324.6 | 申请日： | 2010-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN101857949A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 吴睿恩 | 申请（专利权）人： | 吴睿恩 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 李玉平 |
| 地址： | 523850 广东省东莞市长安镇长安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种PVD真空离子镀膜的方法，该种PVD真空离子镀膜的方法，它包括如下制备步骤：（1）对基材进行前处理；（2）将前处理过的基材脱水并烘干；（3）进炉，进行第一次镀膜；（4）出炉，进行网印或胶印，干燥；（5）再次进炉，进行第二次镀膜；（6）用有机溶剂浸泡除去网印或胶印时的油墨；（7）用水清洗，即得成品。本发明在真空离子镀膜的过程中引入了网印或胶印这一步骤，使制得的产品颜色丰富。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pvd 真空 离子 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：它包括如下制备步骤：（1）对基材进行前处理；（2）将前处理过的基材脱水并烘干；（3）进炉，进行第一次镀膜；（4）出炉，进行网印或胶印，干燥；（5）再次进炉，进行第二次镀膜；（6）用有机溶剂浸泡除去网印或胶印时的油墨；（7）用水清洗，即得成品。
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