[发明专利]一种中温龙泉粉青瓷的制造方法有效
申请号: | 201010207772.4 | 申请日: | 2010-06-20 |
公开(公告)号: | CN101885601A | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 吴隽;李其江;张茂林;吴军明 | 申请(专利权)人: | 景德镇陶瓷学院 |
主分类号: | C04B33/00 | 分类号: | C04B33/00 |
代理公司: | 景德镇市高岭专利事务所 36120 | 代理人: | 程雷 |
地址: | 333000 江西省景*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明涉及一种中温龙泉粉青瓷的制造方法。本发明在坯体和釉料中采用常用矿物原料及化工原料进行特定配比,在釉料中加入煅烧氧化锌和煅烧滑石,使龙泉粉青瓷在1220-1240℃一次烧制而成,解决了现有粉青瓷生产烧成温度高,能耗大,以致生产成本较高且环境污染严重等问题,并能增强中温粉青釉的玉质感。 | ||
搜索关键词: | 一种 龙泉 青瓷 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种中温龙泉粉青瓷的制造方法,其特征在于:其坯体原料配方按重量百分比为:星子高岭5~34%、贵溪瓷石50~80%、钾长石10~20%、水玻璃0.1~0.2%;其釉料原料配方按重量百分比为:钾长石60~68%、紫金土10~14%、二灰15~20%、煅烧滑石2~4%、煅烧氧化锌3~5%、三聚磷酸钠0.1~0.2%;其制造工艺包括泥料和釉料制备、成型、干燥、700~800℃素烧、施釉、1220~1240℃中温烧成,其中所述的中温烧成包括干燥、氧化、强还原、弱还原、冷却五个阶段。
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