[发明专利]单倍大视场光刻投影物镜有效
申请号: | 201010196221.2 | 申请日: | 2010-06-09 |
公开(公告)号: | CN102279457A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 武珩;黄玲;刘国淦 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G02B13/06 | 分类号: | G02B13/06;G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明一种光刻投影物镜,用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内,包括从所述物平面沿光轴依次设置的六个透镜组共16个透镜,其中第四、第五、第六透镜组分别与第三、第二、第一透镜组相对于孔径光阑对称。光刻投影物镜的放大倍率为-1倍。本发明的投影物镜光学系统,具有大的曝光区域,能够良好校正多种像差、畸变,并保证物象方远心,能够提供背景专利1.5倍至两倍的视场,可以满足高产率光刻设备需求。 | ||
搜索关键词: | 单倍大 视场 光刻 投影 物镜 | ||
【主权项】:
一种光刻投影物镜,用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内,其特征在于从所述物平面沿光轴依次设置的六个透镜组共16个透镜,包括:具有正光焦度的第一透镜组;具有正光焦度的第二透镜组;具有负光焦度的第三透镜组;孔径光阑;具有负光焦度的第四透镜组;具有正光焦度的第五透镜组;以及具有正光焦度的第六透镜组;第四透镜组与第三透镜组相对于孔径光阑对称;第五透镜组与第二透镜组相对于孔径光阑对称;第六透镜组与第一透镜组相对于孔径光阑对称;其中,所述各透镜组满足以下关系式:0.013<f2/f1<0.028‑3.7<f3/f2<‑6.2f1:第一透镜组的焦距;f2:第二透镜组的焦距;f3:第三透镜组的焦距。
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