[发明专利]激光照射法制备还原氧化石墨烯无效

专利信息
申请号: 201010186819.3 申请日: 2010-05-28
公开(公告)号: CN101844761A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 黄磊;刘洋;纪乐春 申请(专利权)人: 上海师范大学
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 杨杰民
地址: 200234 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于氧化石墨还原的方法,一种激光照射法制备还原氧化石墨烯。现有技术没有一种方法能够大数量的生产石墨烯,无法将这种具有重要价值的材料应用。本发明步骤如下:在石英容器中放入极性溶剂,取氧化石墨溶于极性溶剂中,制备浓度为0.01mg/ml-10mg/ml的极性氧化石墨溶液;调节极性氧化石墨溶液的pH值为9-10,超声振动1-2小时;将制得的氧化石墨溶液置于频率1Hz以上、波长157-353nm、能量密度40mJ/cm2以上的准分子激光下照射得还原氧化石墨烯。本发明的优点是:制备工艺简单,耗时少;制备过程对环境无污染;制备的石墨烯产品还原程度高,产品质量好;设备简单,适于工业化规模生产。
搜索关键词: 激光 照射 法制 还原 氧化 石墨
【主权项】:
一种激光照射法制备还原氧化石墨烯,步骤如下:(1)在容器中放入极性溶剂,取氧化石墨溶于极性溶剂中,制备浓度为0.01mg/ml-10mg/ml的极性氧化石墨溶液;(2)调节极性氧化石墨溶液的pH值为9-10,超声振动1-2小时;(3)将步骤(2)制得的氧化石墨溶液置于频率1Hz以上、波长157-353nm、能量密度40mJ/cm2以上的准分子激光下照射得还原氧化石墨烯。
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