[发明专利]一种非平衡磁控溅射C/Ta类石墨碳膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201010184354.8 | 申请日： | 2010-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN101818330A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 王佐平;马中伟;张镜斌;王伟;孙长涛 | 申请（专利权）人： | 中国船舶重工集团公司第十二研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;B32B9/04 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 罗笛 |
| 地址： | 713102 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开的一种非平衡磁控溅射C/Ta类石墨碳膜，由在基体金属表面依次复合的过渡层、梯度层及C/Ta复合工作层组成，C/Ta复合工作层按照质量百分比其组成为，Ta：10~50%，C：50~90%，各组分的质量百分比之和为100%。本发明类石墨碳膜的制备方法，首先确定非平衡磁控溅射C/Ta类石墨碳膜的组成；其次对基体金属进行除锈、抛光，超声波除蜡，除油清洗，烘干，将清洗干净的基体金属固定在镀膜工装上；最后对以上清洗干净的基体金属进行溅射镀膜，得到非平衡磁控溅射C/Ta类石墨碳膜。本发明利用Ta对类石墨的良好改性作用，采用多靶技术将钽元素引入磁控溅射技术，制备了一种具有超润滑能力的C/Ta类石墨碳膜，是一种新型高性能固体润滑复合膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平衡 磁控溅射 ta 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种非平衡磁控溅射C/Ta类石墨碳膜，其特征在于，由在基体金属（1）表面依次复合的过渡层（2）、梯度层（3）及C/Ta复合工作层（4）组成，C/Ta复合工作层（4）按照质量百分比其组成为，Ta：10~50%，C：50~90%，Ta 和C组分的质量百分比之和为100%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国船舶重工集团公司第十二研究所，未经中国船舶重工集团公司第十二研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010184354.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种飞机垂尾动态载荷加载装置
- 下一篇：一种用于凿岩机冲击性能测试的吸能器
- 同类专利
- 专利分类
