[发明专利]一种靶材及应用该靶材的半导体器件加工设备有效
申请号: | 201010177298.5 | 申请日: | 2010-05-17 |
公开(公告)号: | CN102251221A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 杨柏 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/14 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张天舒;陈源 |
地址: | 100015 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种可用于溅射工艺的靶材,其至少包括可被独立拆装的两个靶材模块。本发明提供的靶材具有利用率高、更换周期长等的优点。此外,本发明还提供一种应用上述靶材的半导体器件加工设备,其同样具有靶材利用率高、设备维护周期长等的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用 半导体器件 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种靶材,设置于工艺腔室内,其特征在于,所述靶材包括至少两个可被独立拆装的靶材模块,各个所述靶材模块之间设置有绝缘层。
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