[发明专利]一种曝光设备、掩膜板及曝光方法有效
| 申请号： | 201010175938.9 | 申请日： | 2010-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN102243444A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 郭建;周伟峰;明星;陈永;肖光辉 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光设备、掩膜板及曝光方法，涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域，能够利用一块掩膜板对两层光刻胶进行曝光，减少了制造成本，提高了生产效率。该设备包括：承载基板的载台；在载台上方，与载台平行地设有掩膜板；掩膜板与载台之间设有透镜装置；第一照明光源，射出的光线从掩膜板的上方垂直射到掩膜板的上表面，穿过掩膜板，经由透镜装置射到载台；在掩膜板的下表面上，掩膜板的光吸收区域中设有光反射区域；在透镜装置中设有光反射装置；第二照明光源，射出的光线通过透镜装置中的光反射装置被垂直地反射到掩膜板的下表面，被掩膜板下表面的光反射区域反射，经由透镜装置射到载台。本发明用于光刻胶层曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 设备 掩膜板 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，包括：承载基板的载台；在所述载台上方，与所述载台平行地设有掩膜板；所述掩膜板与所述载台之间设有透镜装置；第一照明光源，射出的光线从所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿过所述掩膜板，经由所述透镜装置射到所述载台；其特征在于，在所述掩膜板的下表面上，所述掩膜板的光吸收区域中设有光反射区域；在所述透镜装置中设有光反射装置；第二照明光源，射出的光线通过所述透镜装置中的光反射装置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射区域反射，经由所述透镜装置射到所述载台。
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