[发明专利]一种避免甜樱桃花期遭受低温冻害的栽培方法无效

专利信息
申请号: 201010173496.4 申请日: 2010-04-26
公开(公告)号: CN101803548A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 顾军;雷雅斌 申请(专利权)人: 顾军;雷雅斌
主分类号: A01G17/00 分类号: A01G17/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 741002 *** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开一种避免甜樱桃花期遭受低温冻害的栽培方法。其目的是避免甜樱桃花期遭受低温冻害。本发明的技术方案由四部分组成:营养钵大苗培育、低温冷藏、大田假植和更新复壮。春季,将樱桃苗栽植于大营养钵内,放入已挖好的沟内,通过施肥、灌水、整形等措施,在苗圃内培育3-4年,完成营养钵大苗培育阶段;樱桃休眠后,将营养钵挖出,移入低温设施内进行低温冷藏;翌年4月上旬,冬剪后,将营养钵移出低温设施,进行大田假植,通过施肥、灌水等措施,让葡萄正常萌芽、开花、结果;果实采收后,挖出营养钵,刮除土坨外层营养土,用营养土填充土坨与营养钵间的间隙后,将营养钵重新栽植于原处,完成更新复壮。循环生产,完成全过程。
搜索关键词: 一种 避免 樱桃 花期 遭受 低温 冻害 栽培 方法
【主权项】:
一种避免甜樱桃花期遭受低温冻害的栽培方法。其特征在于栽培流程由四部分组成:(1)营养钵大苗培育、(2)低温冷藏、(3)大田假植、(4)更新复壮,春季萌芽前,将葡萄苗栽植于大营养钵内,按3m的行距在田地挖栽植沟,将营养钵放入沟内,用土回填营养钵间的缝隙,葡萄萌芽后,进行施肥、灌水、整形、修剪等田间管理,在苗圃内培育3-4年,促其进入初丰产期,完成营养钵大苗培育阶段;樱桃植株在苗圃内生长3-4年后,待樱桃落叶休眠后,将营养钵挖出,移至低温设施内,进行低温冷藏,保持相对湿度在70%以下,温度为-5至7℃之间;翌年4月上旬,完成冬剪,待外界温度稳定后,及时将营养钵移出低温设施,带钵栽植于大田内,通过施肥、灌水、修剪等措施精心管理,让樱桃正常萌芽、开花、结果,这样就完成了大田假植;果实采收后,将营养钵挖出,脱下营养钵,刮除土坨外层5cm厚的营养土,剪除裸露于土坨外的根系,在营养钵(营养钵如有破损需更换)底部重新灌入5cm厚的新配制的营养土后,重新将土坨放入钵内。扶直植株,用新配制的营养土填充土坨与营养钵间的间隙,并在土坨上表面也添加5cm厚的新配制的营养土,完成上述工作后,将营养钵重新栽植于原处,这样就完成了更新复壮,待樱桃落叶休眠后,再将其重新移入低温设施,按(2)-(3)所述方法循环生产,每隔2-3年,应按(4)所述方法更新复壮一次。
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