[发明专利]防尘薄膜组件无效
| 申请号： | 201010172708.7 | 申请日： | 2010-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN101930164A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 关原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种防尘薄膜组件，其在使用中没有从通气孔或过滤元件产生尘屑的疑虑，可靠度很高。本发明的防尘薄膜组件在通气孔的周缘部实施C或R倒角加工，而且将其直径设置成从内面侧向外面侧以逐渐增大的方式扩大的构造。再者，将通气孔内壁的表面粗糙度Ra设在1.0以下。像这样就能够大幅减少从周缘部所产生的尘屑，并且能够很精确地检查通气孔内部是否有异物，洗净效率也能够提高。结果，就能够提供一种防尘薄膜组件，其在使用中没有从通气孔或过滤元件周边产生异物的疑虑，可靠度极高。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 | ||
【主权项】：
一种防尘薄膜组件，其于防尘薄膜组件框架上设置用来将防尘薄膜组件内部的气压调整成与外部相同的通气孔，并在该通气孔上安装用以防止异物侵入到防尘薄膜组件内部的过滤元件，其特征在于，在通气孔的周缘部设置C0.5～C1.0的倒角或R0.5～R1.0的倒角。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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