[发明专利]光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法有效
| 申请号： | 201010155335.2 | 申请日： | 2005-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101799587A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | D·菲奥尔卡;M·德格恩特尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G02B5/30;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法。该光学系统包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方向，所述偏振调制光学元件包含旋光材料和有效光学厚度的分布，其中所述有效光学厚度至少作为与所述坐标系统的所述优选坐标不同的一个坐标的函数而变化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 投影 系统 微结构 半导体 部件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学系统，包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方向，所述偏振调制光学元件包含旋光材料和有效光学厚度的分布，其中所述有效光学厚度至少作为与所述坐标系统的所述优选坐标不同的一个坐标的函数而变化。
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