[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010150862.4 | 申请日： | 2006-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101794083A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | B·斯特利夫科克;S·N·L·董德斯;R·F·德格拉夫;C·A·霍根大姆;M·H·A·李恩德斯;J·J·S·M·马坦斯;M·里庞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻装置和器件制造方法，一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和/或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，用于将所需图案的图像透过液体投影到保持于基底台的基底上，在基底台的表面中以基底台上表面中的凹槽的形式存在间隙，或者在基底台和安装于基底台上的另外的传感器单元或基准板之间存在间隙，或者在基底台和基底的外缘之间存在间隙，在正常使用时，液体与所述间隙接触，其中所述间隙的表面涂覆有疏水涂层。
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