[发明专利]声学结构有效

专利信息
申请号: 201010127637.9 申请日: 2010-03-05
公开(公告)号: CN101826323A 公开(公告)日: 2010-09-08
发明(设计)人: 藤森润一;本地由和 申请(专利权)人: 雅马哈株式会社
主分类号: G10K11/175 分类号: G10K11/175;G10K11/20
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 陈源;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种声学结构。在该声学结构中,通过落入开口部分的入射波与由于响应于该入射波在中空部件内发生共振而从开口部分辐射的反射波之间的干涉来实现声音吸收效果,例如在开口部分的正面方向形成声音吸收区域。通过上述干涉和入射波与从开口部分辐射的声波之间的干涉之间的相互作用来实现声音散射效果,例如在声音吸收区域附近形成声音散射区域。认为这种声音散射效果是由于从开口部分辐射的声波与从反射面辐射的声波之间的相位差而在不垂直于开口部分和反射面的倾斜方向上产生的气体分子的运动能量的流动实现的。与共振频率的波长相比,声学结构在厚度(z)方向的尺寸足够小,因此,所述声学结构将不会很大程度地使安装空间变窄。
搜索关键词: 声学 结构
【主权项】:
一种声学结构,包括:共振腔,具有沿一个方向延伸的中空区域,所述中空区域经由开口部分与外部空间连通;以及反射面,被布置成靠近所述开口部分并且面对所述外部空间,其中,来自所述外部空间的入射声波落入所述开口部分并且落在所述反射面上,其中,当所述反射面响应于所述入射声波而辐射反射波时,所述共振腔响应于所述入射声波而发生共振并且经由所述开口部分辐射相位与来自所述反射面的反射波的相位不同的反射波,并且其中通过将所述开口部分的声阻抗率除以所述开口部分的介质的特性阻抗计算出的值的实部几乎为0。
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