[发明专利]用于间隙填充材料组合物的共聚物、其制备方法和用于抗反射涂层的间隙填充材料组合物

摘要

本发明提供了一种用于间隙填充材料的共聚物，其由下列化学式1表示：[化学式1]其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆和R₇彼此互相独立，R₁是氢原子或是C1-10烷基，每个R₂、R₃和R₄表示氢原子、C1-10烷基或C1-20芳烷基，每个R₅、R₆和R₇表示氢原子或甲基，且每个a、b、c和d是表示主链上重复单元的数目，其中a+b+c+d＝1，0.05＜a/(a+b+c+d)＜0.95，0.05＜b/(a+b+c+d)＜0.95，0.05＜c/(a+b+c+d)＜0.95，and 0.05＜d/(a+b+c+d)＜0.95。

主权项

1.一种用于间隙填充材料的共聚物，其由下列化学式1表示，[化学式1]其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆和R₇彼此互相独立，R₁是氢原子或是C1-10烷基，每个R₂、R₃和R₄表示氢原子、C1-10烷基或C1-20芳烷基，每个R₅、R₆和R₇表示氢原子或甲基，且每个a、b、c和d是表示主链上重复单元的数目，其中a+b+c+d＝1，0.05＜a/(a+b+c+d)＜0.95，0.05＜b/(a+b+c+d)＜0.95，0.05＜c/(a+b+c+d)＜0.95和0.05＜d/(a+b+c+d)＜0.95。