[发明专利]一种曝光图案形成的方法有效
| 申请号： | 201010113318.2 | 申请日： | 2010-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN101900947A | 公开（公告）日： | 2010-12-01 |
| 发明（设计）人： | 谢文仁;庄英鸿;汤逢锦 | 申请（专利权）人： | 福州华映视讯有限公司;中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种曝光图案形成的方法，其包含：提供一基板；形成一光阻层于所述基板上；将一具有图案的光罩置于光阻层的上方并对准一相对应位置以进行至少二次曝光，其中至少一次曝光是移动此具有图案的光罩对准另一相对应位置；提供至少一滤光片以进行至少一次曝光，所述滤光片是设置于所述具有图案的光罩上方或下方；以及进行显影以移除部分的光阻层以形成不同维度的图案结构于基板上。本发明可有效地缩减制程步骤以降低制程时间，更因为节省光罩成本之故，有效地降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光图案形成的方法，其特征在于包含：提供一基板；形成一光阻层于该基板上；将一具有图案的光罩置于该光阻层的上方并对准一相对应位置以进行至少二次曝光，其中至少一次曝光是移动该具有图案的光罩对准另一相对应位置；提供至少一滤光片以进行至少一次曝光，其中该滤光片设置于该具有图案的光罩上方或下方；以及进行显影以移除部分的该光阻层以形成不同维度的图案结构于该基板上。
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