[发明专利]曝光头及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 201010111029.9 申请日: 2010-02-02
公开(公告)号: CN101794098A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 田中博;井熊健 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03G15/04 分类号: G03G15/04;G03G15/01
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘建
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种曝光头和图像形成装置,在排列了多列发光元件的曝光头的光量修正处理中抑制光传感器所检测的光量的不均。该曝光头具有:第一发光元件列,其在配设于光透过性基板(220)的第一方向上配设有发光元件(202);第二发光元件列,其在与第一发光元件列不同的第一方向上配设有发光元件(202);第一光传感器(230),其被设置在与第一方向正交的第二方向的第一侧,接受第一发光元件列的发光元件和第二发光元件列的发光元件所发出的光;第二光传感器(230),其被设置在第二方向上与第一侧相反的第二侧,接受第一发光元件列的发光元件和第二发光元件列的发光元件所发出的光;和成像光学系统(205),其对发光元件发出的光进行成像。
搜索关键词: 曝光 图像 形成 装置
【主权项】:
一种曝光头,其特征在于,具有:光透过性基板;第一发光元件列,其在配设于所述光透过性基板的第一方向上配设有发光元件;第二发光元件列,其在与配设于所述光透过性基板的所述第一发光元件列不同的所述第一方向上配设有发光元件;第一光传感器,其设置在与配设于所述光透过性基板的所述第一方向正交的第二方向的第一侧,接受所述第一发光元件列的所述发光元件和所述第二发光元件列的所述发光元件所发出的光;第二光传感器,其设置在所述第二方向上与配设于所述光透过性基板的所述第一侧相反的第二侧,接受所述第一发光元件列的所述发光元件和所述第二发光元件列的所述发光元件所发出的光;和成像光学系统,其对所述发光元件发出的光进行成像。
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