[发明专利]光学断层图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201010005421.5 申请日: 2010-01-19
公开(公告)号: CN101791213A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 杉田充朗 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;A61B3/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 康建忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光学断层图像形成装置,该光学断层图像形成装置能够在通过区域聚焦获得沿深度方向分割的图像时缩短多个聚焦位置处的聚焦时间段。该光学断层图像形成装置包括:用于将预定的图像形成深度范围内的区域分成多个聚焦区域以设定多个聚焦位置的聚焦位置设定装置;用于在预定的图像形成深度范围内沿图像形成深度方向设定至少两个基准位置的基准位置设定装置;和用于执行控制以基于由聚焦位置设定装置产生的聚焦位置信息和由基准位置设定装置事先设定的所述至少两个基准位置处的对焦的聚焦条件依次在所述多个聚焦位置处执行聚焦的聚焦控制装置。
搜索关键词: 光学 断层 图像 形成 装置
【主权项】:
一种光学断层图像形成装置,用于通过将来自光源的光束分成测量光束和参照光束、利用扫描光学系统的扫描将测量光束引向对象、并使用参照光束以及与作为被对象反射和散射的光束中的一种的测量光束对应的返回光束,拍摄对象的断层图像,该光学断层图像形成装置包括:用于将预定的图像形成深度范围内的区域分成多个聚焦区域以设定多个聚焦位置的聚焦位置设定装置;用于在预定的图像形成深度范围内沿图像形成深度方向设定至少两个基准位置的基准位置设定装置;和用于执行控制以基于由聚焦位置设定装置产生的聚焦位置信息和由基准位置设定装置事先设定的所述至少两个基准位置处的对焦的聚焦条件依次在所述多个聚焦位置处执行聚焦的聚焦控制装置。
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