[发明专利]圆盘形高密度记录介质有效
申请号: | 200980157514.5 | 申请日: | 2009-12-12 |
公开(公告)号: | CN102576557A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | F-K.布鲁德;W.黑泽;R.奥泽;R.普罗特;A.迈尔;K.希尔登布兰;R.王;I.张 | 申请(专利权)人: | 拜尔材料科学股份公司;拜耳材料科技(中国)有限公司 |
主分类号: | G11B7/254 | 分类号: | G11B7/254;G11B7/253 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 范赤;林森 |
地址: | 德国莱*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光学记录介质,其中在基材上顺序地形成至少一个记录层和一个光传输层,并且其中光从光传输层侧照射用于记录和/或再现信息信号,所述基材包括注塑部件,并且所述基材具有根据ASTME756-0505在25℃、2000Hz下测量的至少2.15GPa的杨氏模量E和低于160的Q因子,和>85%的凹点/凹槽结构的可录制性。 | ||
搜索关键词: | 圆盘 高密度 记录 介质 | ||
【主权项】:
一种光学记录介质,其中在基材上顺序地形成至少一个记录层和一个光传输层,并且其中光从光传输层侧照射用于记录和/或再现信息信号,所述基材包括注塑部件,并且所述基材具有根据ASTM E 756‑05在25℃、2000 Hz下测量的至少2.15 GPa的杨氏模量E和低于160的Q因子,和>85%的可录制性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拜尔材料科学股份公司;拜耳材料科技(中国)有限公司,未经拜尔材料科学股份公司;拜耳材料科技(中国)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980157514.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。