[发明专利]成膜装置和使用该成膜装置的基板的制造方法有效
| 申请号： | 200980152358.3 | 申请日： | 2009-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN102264942A | 公开（公告）日： | 2011-11-30 |
| 发明（设计）人： | 松村康晴 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜装置和使用该成膜装置的基板的制造方法。在通过供给气体而对在真空腔室(7)内连续地进行输送的基板(1)进行成膜的成膜装置中，能够在两处成膜区域(14a、14b)中同时以均匀的流动容易地供给气体，从而能够高效率地进行均匀性高的膜质的成膜。成膜装置(C)的结构如下：真空腔室(7)中被隔板(8)分隔成含有上述基板(1)的输送路径的成膜室(9a)、与排气装置(18)相连接的排气室(9b)，在上述成膜室(9a)中，在隔着基板(1)的输送路径而与隔板(8)相反的一侧的前后方向中央部设有气体供给部(10)，并且在该气体供给部(10)的前后分别设有前部以及后部溅射阴极(12a、12b)，在上述隔板(8)上的比上述前部溅射阴极(12a)靠前方的位置、比上述后部溅射阴极(12b)靠后方的位置分别设有前部排气口以及后部排气口。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种成膜装置，该成膜装置在通过供给气体而对在真空腔室中被连续地输送的长条的基板或者被载置于在真空腔室中连续地移动的托架上而被连续地输送的基板实施成膜，其特征在于，真空腔室中被隔板分隔成含有上述基板的输送路径的成膜室、与排气装置相连接的排气室；在上述成膜室中，在隔着上述基板的输送路径而与隔板相反的一侧的前后方向中央部设有气体供给部，并且在该气体供给部的前后分别设有前部成膜部以及后部成膜部；在上述隔板上的比上述前部成膜部靠前方的位置、比上述后部成膜部靠后方的位置分别设有前部排气口和后部排气口。
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