[发明专利]抗反应性等离子体处理的保护涂层有效
| 申请号： | 200980145269.6 | 申请日： | 2009-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN102245540B | 公开（公告）日： | 2017-07-07 |
| 发明（设计）人： | 詹尼弗·Y·孙;段仁官;肯尼思·S·柯林斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C04B41/85 | 分类号： | C04B41/85;C04B41/87;C04B41/45 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及含金属氧氟化物的釉料或含金属氟化物的釉料组合物、玻璃陶瓷组合物及其组合，其可用作抗等离子体固体基板或在其它基板上的抗等离子体保护涂层。本发明还描述制造各种结构的方法，所述方法包括掺入上述组合物，所述结构包括固体基板及在基板表面上的涂层，所述基板具有高于约1600℃的熔点，诸如为铝氧化物、铝氮化物、石英、硅碳化物、硅氮化物。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 等离子体 处理 保护 涂层 | ||
【主权项】：
一种抗含卤素等离子体的保护涂层组合物，所述涂层包含：经烧结的组合物，其包含与氧氟化物的无定形相结合的钇基氟化物晶体相、或钇基氧氟化物晶体相、或这两者，其中所述涂层存在于具有高于1600℃±160℃熔点的表面上。
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