[发明专利]RNA合成-用于反向合成RNA的亚磷酰胺,以及在3’-末端合成RNA的配体、发色团和修饰物的方便引入中的应用在审
申请号: | 200980144136.7 | 申请日: | 2009-09-08 |
公开(公告)号: | CN102439025A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | S·C·斯里瓦斯塔瓦;S·P·巴杰帕伊;N·P·斯里瓦斯塔瓦;D·潘迪 | 申请(专利权)人: | 坎姆根公司 |
主分类号: | C07H21/02 | 分类号: | C07H21/02 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 刘丹妮 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及新型的亚磷酰胺,制备了HPLC纯度大于98%以及31PNMR纯度大于99%的A-n-bz、C-n-bz、C-n-ac、G-n-ac和U。开发并公开了新的反向5’→3’合成RNA寡聚物的方法。使用该方法显示出高质量的RNA合成,偶合效率接近99%。 | ||
搜索关键词: | rna 合成 用于 反向 亚磷酰胺 以及 末端 发色团 修饰 方便 引入 中的 应用 | ||
【主权项】:
1.一种式(1)的亚磷酰胺,
其中,Y为氧或硫;W为氧、氮和氟;R4选自叔丁基二甲基甲硅烷基(TBDMS)、三异丙基甲硅烷基氧亚甲基、芴基甲基氧羰基(Fmoc)、烷基、芳基和乙酰基;Z为由二甲氧基三苯基(DMT)、一甲氧基三苯基(MMT)和三甲氧基三苯基(TMT)组成的保护基;R1为烷基或芳基;R2为烷基或芳基;R3为氰乙基,烷基或芳基;并且B为氢或者任选地在各个伯胺上使用胺保护基官能化的核苷碱基。
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