[发明专利]用于提供激光照射文件的设备和方法无效
申请号: | 200980143569.0 | 申请日: | 2009-10-29 |
公开(公告)号: | CN102202617A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | G·尤西非;E·黑格尔斯 | 申请(专利权)人: | 泰克诺拉斯完美视觉股份有限公司 |
主分类号: | A61F9/01 | 分类号: | A61F9/01 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;韩宏 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及提供在激光器中使用的激光照射文件的设备、算法及方法。该激光器可为准分子激光器。照射文件可用于实施眼睛的屈光激光治疗或者用于产生定制的隐形眼镜或人工晶体。根据本发明,提供关于期望的消融轮廓信息,以及基于期望的消融轮廓计算第一系列的激光照射位置。利用所述的第一系列激光照射位置以及利用关于单个激光照射的脉冲特性的信息产生模拟的消融轮廓。将模拟的消融轮廓与期望的消融轮廓进行比较,并确定残余构造。 | ||
搜索关键词: | 用于 提供 激光 照射 文件 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于提供在激光器、优选为准分子激光器中使用的激光照射文件的方法,该激光照射文件优选用于实施眼睛的屈光激光治疗或用于产生定制的隐形眼镜或人工晶体,所述方法包括步骤:a)提供关于期望的消融轮廓的信息,b)基于所述期望的消融轮廓,计算第一系列激光照射位置,c)利用所述第一系列激光照射位置并且利用与单个激光照射的脉冲特性有关的信息,产生模拟的消融轮廓,d)将所述模拟的消融轮廓与所述期望的消融轮廓进行比较,并确定残余结构,以及e)基于所述期望的消融轮廓和所确定的残余结构,计算第二系列激光照射位置。
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