[发明专利]磁记录媒体制造装置有效
| 申请号： | 200980128660.5 | 申请日： | 2009-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102150208A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 西桥勉;森田正;渡边一弘;佐藤贤治;涡卷拓也;田中勉 | 申请（专利权）人： | 爱发科股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/855 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的磁记录媒体制造装置，使具有磁记录层的基板表面不会由于离子铣削而消失，且不受大气影响地制造磁记录媒体；该磁记录媒体制造装置(10)，在向具有磁记录层的基板(71)注入离子束后，将该离子束注入后的具有磁记录层的基板(80)的表面通过灰化而除去，从而制造磁记录媒体(70)，其设有：向涂敷有抗蚀膜(76)或金属掩膜的具有磁记录层的基板(71)注入离子束的离子注入室(20)、和通过等离子体将涂敷有抗蚀膜(76)或金属掩膜的具有磁记录层的基板(71)的抗蚀膜(76)或金属掩膜灰化并除去的灰化室(30)，离子注入室(20)与灰化室(30)以真空状态而被连接，同时，设有将离子束注入后的基板(80)从离子注入室(20)输送至灰化室(30)的基板输送机(60)。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 媒体 制造 装置 | ||
【主权项】：
一种磁记录媒体制造装置，在向具有磁记录层的基板注入离子束之后，将该离子束注入后的具有磁记录层的基板的表面的抗蚀膜或金属掩膜通过灰化而除去，从而制造磁记录媒体，其特征在于，设有离子注入室和灰化室；所述离子注入室，从生成离子的离子源中引出所希望的离子种类并加速为所希望的能量后，将离子束注入涂敷有抗蚀膜或金属掩膜的具有磁记录层的基板；所述灰化室，设有使等离子体发生并扩散的等离子体发生装置，并利用通过所述等离子体发生装置而被扩散的等离子体，将所述涂敷有抗蚀膜或金属掩膜的具有磁记录层的基板上的、至少所述抗蚀膜或金属掩膜灰化并除去；所述离子注入室与所述灰化室通过真空阀以真空状态而被连接，同时，设有将所述离子束注入后的基板从所述离子注入室输送至所述灰化室的基板输送机。
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