[发明专利]光刻设备、器件制造方法、清洁系统以及图案形成装置的清洁方法无效
| 申请号： | 200980114405.5 | 申请日： | 2009-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN102016723A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | L·斯卡克卡巴拉兹;V·V·伊万诺夫;K·N·克什烈夫;J·H·J·莫尔斯;L·H·J·斯蒂文斯;P·S·安提斯弗诺夫;V·M·克里夫特逊;L·A·多若克林;M·范卡朋 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括被配置以调节辐射束的照射系统和被配置以支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置被配置以将图案赋予辐射束。所述设备包括图案形成装置清洁系统，所述图案形成装置清洁系统被配置以提供静电力至污染物颗粒，所述污染物颗粒位于图案形成装置上且通过辐射束被施以电荷，以便从图案形成装置移除污染物颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 清洁 系统 以及 图案 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，被配置以调节辐射束；支撑结构，被配置以支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置以将图案赋予所述辐射束；和图案形成装置清洁系统，被配置以提供静电力至位于所述图案形成装置上的且被所述辐射束施以电荷的污染物颗粒，用以从所述图案形成装置移除所述污染物颗粒。
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