[发明专利]在刻印光刻技术中减少突出物有效
| 申请号： | 200980104592.9 | 申请日： | 2009-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101939704A | 公开（公告）日： | 2011-01-05 |
| 发明（设计）人： | N·胡斯努季诺夫;C·E·琼斯;J·G·佩雷斯;D·L·拉布拉克;I·M·麦克麦基 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G03C5/00 | 分类号： | G03C5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 李玲 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 位于能量源与刻印光刻模板之间的器件可以阻挡能量暴露于基板上所分配的可聚合的材料的多个部分。被阻挡从而不能暴露于上述能量的可聚合的材料的多个部分可以仍然是流体，而使其余的可聚合的材料固化。 | ||
| 搜索关键词： | 刻印 光刻 技术 减少 突出 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：将一器件置于能量源与刻印光刻模板的台面之间，所述能量源提供能量，并且所述器件能够阻挡第一波长的能量；在基板上分配可聚合的材料；对刻印光刻模板与基板进行定位，使得刻印光刻模板的台面接触可聚合的材料；使刻印光刻模板暴露于所述能量，使得基板上的可聚合的材料的第一部分被固化，并且基板上的可聚合的材料的第二部分是流体。
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