[实用新型]单晶用环形永磁场有效

专利信息
申请号: 200920288474.5 申请日: 2009-12-28
公开(公告)号: CN201593075U 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 张承臣;李恒盛;吴文奎;唐奇;邵贵成 申请(专利权)人: 抚顺隆基电磁科技有限公司
主分类号: C30B30/04 分类号: C30B30/04
代理公司: 抚顺宏达专利代理有限责任公司 21102 代理人: 许翔
地址: 113122 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种单晶用环形永磁场,包括有环形结构的永磁系,永磁系的内外侧及上下端分别安装有内筒、导磁筒及上、下磁轭。使用时,将本实用新型包围在单晶炉外侧,使单晶炉内产生沿晶升方向的垂直环形磁场,磁力线从炉体中穿过,在结晶区域内无磁场或磁场很弱,结晶区外围有强磁场。该种叠加环形磁场的存在,能够有效地抑制硅液对流的产生,降低硅液的机械波动及温度起伏,增大流体的黏度,使硅液及导电介质处于相对静止状态,导电介质分布比较均匀,提高了单晶硅径向电阻率的均匀性,进而提高材料利用率,提高了硅片性能指标。同时,还能有效地降低单晶硅中氧、碳的及其它杂质的含量。
搜索关键词: 单晶用 环形 永磁
【主权项】:
一种单晶用环形永磁场,其特征是:包括有环形结构的永磁系(1),永磁系(1)的内外侧及上下端分别安装有内筒(6)、导磁筒(4)及上、下磁轭(3)、(5)。
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