[实用新型]单晶用环形永磁场有效
申请号: | 200920288474.5 | 申请日: | 2009-12-28 |
公开(公告)号: | CN201593075U | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 张承臣;李恒盛;吴文奎;唐奇;邵贵成 | 申请(专利权)人: | 抚顺隆基电磁科技有限公司 |
主分类号: | C30B30/04 | 分类号: | C30B30/04 |
代理公司: | 抚顺宏达专利代理有限责任公司 21102 | 代理人: | 许翔 |
地址: | 113122 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种单晶用环形永磁场,包括有环形结构的永磁系,永磁系的内外侧及上下端分别安装有内筒、导磁筒及上、下磁轭。使用时,将本实用新型包围在单晶炉外侧,使单晶炉内产生沿晶升方向的垂直环形磁场,磁力线从炉体中穿过,在结晶区域内无磁场或磁场很弱,结晶区外围有强磁场。该种叠加环形磁场的存在,能够有效地抑制硅液对流的产生,降低硅液的机械波动及温度起伏,增大流体的黏度,使硅液及导电介质处于相对静止状态,导电介质分布比较均匀,提高了单晶硅径向电阻率的均匀性,进而提高材料利用率,提高了硅片性能指标。同时,还能有效地降低单晶硅中氧、碳的及其它杂质的含量。 | ||
搜索关键词: | 单晶用 环形 永磁 | ||
【主权项】:
一种单晶用环形永磁场,其特征是:包括有环形结构的永磁系(1),永磁系(1)的内外侧及上下端分别安装有内筒(6)、导磁筒(4)及上、下磁轭(3)、(5)。
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