[实用新型]能调整擦拭位置的擦拭结构无效

专利信息
申请号: 200920168220.X 申请日: 2009-08-19
公开(公告)号: CN201511714U 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 黄崑棣 申请(专利权)人: 黄崑棣;陈淑训
主分类号: B43L21/00 分类号: B43L21/00;B43L21/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 杨俊波
地址: 中国台湾台北县三重*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型涉及一种能调整擦拭位置的擦拭结构,包括一擦拭块及一本体,其中该擦拭块包括一块体及一擦拭层,该块体的横截面呈一对称的几何形状,该擦拭层披覆在该块体的表面,该本体的一侧面设有一第一容纳槽,该第一容纳槽的横截面形状与该块体横截面的一部分相匹配,使得该第一容纳槽足以容纳该擦拭块的一部分,并使该擦拭块裸露在该第一容纳槽外的其余部分作为擦拭面,该擦拭块的其余部分已脏污的情况下,使用者仅需将该擦拭块取出,并将该擦拭块上已脏污的部分置入该第一容纳槽中,使得该擦拭块上干净的部分被暴露在该第一容纳槽之外,即可充分使用整个擦拭块的任一部分进行擦拭,而无需另行更换其它擦拭结构。
搜索关键词: 调整 擦拭 位置 结构
【主权项】:
一种能调整擦拭位置的擦拭结构,其特征在于:所述能调整擦拭位置的擦拭结构包括:一擦拭块,包括一块体及一擦拭层,该块体的横截面呈一对称的几何形状,该擦拭层披覆在该块体的表面;及一本体,该本体的一侧面设有一第一容纳槽,该第一容纳槽的横截面形状与该块体横截面的一部分相匹配,且该第一容纳槽能容纳该擦拭块的一部分,该擦拭块的一部分被定位于该第一容纳槽中,且该擦拭块裸露在该第一容纳槽外的其余部分为擦拭面。
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