[实用新型]磁控溅射设备有效
| 申请号： | 200920108623.5 | 申请日： | 2009-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN201395626Y | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 赵鑫;明星;周伟峰;张文余;郭建 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 曲 鹏 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁控溅射设备，包括固定靶材的共同板和提供磁场的磁靶，所述共同板与磁靶之间设置有调整靶材上方磁场强度的缓冲板。所述缓冲板包括数个以设定间隔依次叠设的调整板，每个调整板与驱动所述调整板移入或移出工作区域的驱动装置连接。本实用新型在磁靶与共同板之间设置可以调整靶材上方磁场强度的缓冲板，且缓冲板由数个依次叠设的调整板组成，通过改变调整板的叠设层数实现磁场强度的调整。与现有技术相比，本实用新型调整磁场强度的效率比较高，大大降低了操作人员的劳动强度。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射设备，包括固定靶材的共同板和提供磁场的磁靶，其特征在于，所述共同板与磁靶之间设置有调整靶材上方磁场强度的缓冲板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司，未经北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200920108623.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种一模两双EVA鞋模
- 下一篇：一种爆米花锅
- 同类专利
- 专利分类
