[发明专利]磁控溅射装置无效
| 申请号： | 200910301434.4 | 申请日： | 2009-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN101857951A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 裴绍凯;林后尧 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁控溅射装置，包括一溅射腔体、设置在该溅射腔体内的溅射靶，该溅射靶包括：基座、固定于该基座的转轴、多块金属板及多块靶材，该多块金属板分别固设于该基座相对的两表面，且每个金属板具有一背离该基座的靶材固定面，该多块靶材分别固设于一金属板的靶材固定面上；该磁控溅射装置还包括一转动驱动装置，该转轴连接于该转动驱动装置从而该转动驱动装置可驱动该溅射靶以该转轴为轴实现翻转。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射装置，包括一溅射腔体、设置在该溅射腔体内的溅射靶，其特征在于，该溅射靶包括：基座、固定于该基座的转轴、多块金属板及多块靶材，该多块金属板分别固设于该基座相对的两表面，且每个金属板具有一背离该基座的靶材固定面，该多块靶材分别固设于一金属板的靶材固定面上；该磁控溅射装置还包括一转动驱动装置，该转轴连接于该转动驱动装置从而该转动驱动装置可驱动该溅射靶以该转轴为轴实现翻转。
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