[发明专利]用于防止胎面部的渗出物的电子线照射装置无效
| 申请号： | 200910249891.3 | 申请日： | 2009-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN101844382A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 鞠正镐;金武泳 | 申请（专利权）人： | 韩国轮胎株式会社 |
| 主分类号： | B29C35/08 | 分类号： | B29C35/08;B29L30/00 |
| 代理公司： | 北京市京大律师事务所 11321 | 代理人： | 李光松;盛东生 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于防止胎坯的胎面部的渗出物(Spew)的电子线照射装置，在轮胎硫化作业时为了防止胎坯的胎面部的渗出物，而在硫化工序前向胎坯的胎面部照射电子线以进行局部硫化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 防止 面部 渗出物 电子线 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种用于防止胎坯的胎面部的渗出物的电子线照射装置，其特征在于，包括：上下膨胀轮圈(2a、2b)，以一定压力固定维持规格多样的胎坯(1)并使该胎坯旋转；电子线照射器(3)，以一定间隔与配置于上述上下膨胀轮圈(2a、2b)上的胎坯(1)的胎面部(1a)分离设置；以及电子线屏蔽膜(5)，具有配置于胎坯(1)和电子线照射器(3)之间的电子线贯通部(4)，使得在上述胎坯(1)的胎面部(1a)以外的部位不产生电子线照射。
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