[发明专利]一种扫描光刻机掩模台位置测量装置及测量方法有效
| 申请号： | 200910200089.5 | 申请日： | 2009-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102087475A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 许琦欣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种扫描光刻机掩模台位置测量装置及测量方法，采用了若干激光干涉仪取代电容传感器，使水平向和垂直方向的传感器一致，便于信号同步控制，同时也使得垂直方向测量的量程增加。此外，通过在物镜顶部安装45度反射镜，使干涉测量光可以从任意水平方向引入，从而能够在大的运动范围内进行垂直方向的测量，并在测量倾斜量过程中引入对各向测量干涉仪的权重分配，使得对掩模台位置测量更加精确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扫描 光刻 机掩模台 位置 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
一种扫描光刻机掩模台位置测量装置，包括：水平纵向测量模块(101)，水平横向测量模块(102)，掩模台(103)，物镜(104)和主基板(113)；其特征在于：所述水平纵向测量模块(101)和所述水平横向测量模块(102)均包括若干干涉仪测量轴；所述掩模台(103)面对水平纵向测量模块(101)的一侧安装有第一角锥棱镜(109)和第二角锥棱镜(115)，面对水平横向测量模块(102)的一侧安装有第一长条平面反射镜(118)，所述掩模台(103)底部沿水平纵向安装有第二长条平面反射镜(110)和第三长条平面反射镜(114)；所述物镜(104)顶部和所述第二长条平面反射镜(110)、第三长条平面反射镜(114)正下方，安装有若干45度反射镜和平面反射镜。
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