[发明专利]调焦调平检测装置有效
| 申请号： | 200910197101.1 | 申请日： | 2009-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN102043352A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 魏礼俊;张冲;陈飞彪 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明的调焦调平检测装置包括照明单元、投影及步进扫描单元、光学成像单元和探测器；所述照明单元发射出的光束通过投影及步进扫描单元入射到硅片表面上，所述投影及步进扫描单元在一维方向上作扫描振动，在与之正交的另一维方向上作步进运动，从而实现对硅片表面整个曝光场的扫描，获取检测信息，携带检测信息的光束经硅片表面反射后由光学成像单元成像到探测器上，所述探测器对检测信息进行处理，以获得硅片表面偏离曝光位置的数据信息。本发明调焦调平检测装置利用投影及步进扫描单元在步进和扫描两个方向上，对整个硅片曝光场进行更接近真实硅片表面状况的全场多点扫描测量，从而大大提高了测量精度，且工艺适应性强。 | ||
| 搜索关键词： | 调焦 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种调焦调平检测装置，其特征在于，其包括照明单元、投影及步进扫描单元、光学成像单元和探测器；所述照明单元发射出的光束通过投影及步进扫描单元入射到硅片表面上，所述投影及步进扫描单元在一维方向上作扫描振动，在与之正交的另一维方向上作步进运动，从而实现对硅片表面整个曝光场的扫描，获取检测信息，携带检测信息的光束经硅片表面反射后由光学成像单元成像到探测器上，所述探测器对检测信息进行处理，以获得硅片表面偏离曝光位置的数据信息。
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