[发明专利]一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置无效

专利信息
申请号: 200910190231.2 申请日: 2009-09-19
公开(公告)号: CN101672282A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 孙尚传;童恩东 申请(专利权)人: 大富(深圳)科技有限公司;配天(安徽)机电技术有限公司
主分类号: F04C29/00 分类号: F04C29/00
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所 代理人: 王永文
地址: 518108广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置,装配在涡旋压缩机的前盖与动涡旋盘之间;该装置包括一静止环、一公转环、和位于静止环与公转环之间的滚珠体;静止环设置在前盖上,在接触滚珠体的静止环表面上设置有平底的上凹槽,公转环设置在动涡旋盘上,在接触滚珠体的公转环表面上设置有平底的下凹槽,用于夹持滚珠体活动,以消除动涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。由于采用了带平底凹槽的静止环和带平底凹槽的公转环,减少了装配零件的数量,简化了结构,通过模具即可完成对凹槽的加工,保证了加工的质量,大大提高了生产效率;并充分利用了静止环的大小来增加滚动体的活动范围;并改善了滚动体的受力状况,延长了滚动体的使用寿命。
搜索关键词: 一种 防止 涡旋 自转 滚珠 体式 装置
【主权项】:
1、一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置,用于装配在涡旋压缩机的前盖与动涡旋盘之间;其特征在于,所述的滚珠体式装置包括一静止环、一公转环、和位于所述静止环与公转环之间的多个滚珠体;所述静止环设置在所述前盖上,在接触所述滚珠体的静止环表面上设置有平底的上凹槽;所述公转环设置在所述动涡旋盘上,在接触所述滚珠体的公转环表面上设置有平底的下凹槽;所述上凹槽和下凹槽用于夹持所述滚珠体活动,以消除所述动涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。
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