[发明专利]低通光学滤波器超薄晶片的制造方法

摘要

本发明公开了一种低通光学滤波器超薄晶片的制作方法，其特征在于：在利用抛光机对晶片进行抛光时，使用氟碳表面活性剂作为稀土抛光粉添加剂。在利用抛光机对晶片进行抛光前，还包括：对毛胚晶片的平行度和光洁度进行检查；切割角、旋转角的判定；晶片的研磨。在利用抛光机对晶片进行抛光后，还包括：清洗晶片；对晶片进行波面检查；对晶片进行脉理检测；对晶片进行超净面精检查。本方法制造的滤波器晶片厚度与口径之比≥1∶15，面积为39.95mm×33mm，厚度为0.165mm～0.215mm，光圈N≈5；加氟添加液抛光工艺，提高了晶片的面精度，增加光透过率，减少光圈(N≤5)，提高晶体片粗糙度≤30A，表面透过条纹≤5本、反射条纹≤8本、透过率增加20％、面精度＝10/5。

主权项

1、一种低通光学滤波器超薄晶片的制作方法，其特征在于：在利用抛光机对晶片进行抛光时，使用氟碳表面活性剂作为稀土抛光粉添加剂，所述稀土抛光粉为氧化铈抛光粉，氟碳表面活性剂为混杂性表面活性剂，每8升水加6g氟碳表面活性剂，PH值在8～9之间。