[发明专利]曝光装置用光照射装置、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 200910180146.8 | 申请日： | 2009-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN101859069A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 原田智纪;永井新一郎;轻石修作 | 申请（专利权）人： | 日本精工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F21V7/00;F21V19/00;F21V5/04;F21V29/02 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;杨本良 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置用光照射装置、曝光装置及曝光方法，该曝光装置用光照射装置能够缩短光源部的更换时间及装置的停机时间。光照射装置(80)具备：多个光源部(73)，其分别包括灯(71)和使从灯(71)发出来的光具有方向性地射出的反射镜(72)；多个灯盒(81)，其分别能够安装规定数量的光源部(73)；框架(82)，其能够安装多个灯盒(81)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用光 照射 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置用光照射装置，其特征在于，具备：多个光源部，其分别包括发光部和使从该发光部发出来的光具有方向性地射出的反射光学系统；多个灯盒，其分别能够安装规定数量的所述光源部；框架，其能够安装该多个灯盒。
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