[发明专利]用于产生用于消毒剂用途的pH受控的次卤酸水溶液的电解装置有效
申请号: | 200910178453.2 | 申请日: | 2009-09-29 |
公开(公告)号: | CN101713080A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | D·A·谢尔森;J·W·韦格林;W·J·赫姆克 | 申请(专利权)人: | 高爽工业公司 |
主分类号: | C25B1/26 | 分类号: | C25B1/26;C25B9/06 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 周建秋;王凤桐 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用于在水溶液中产生次卤酸的电解装置包括至少单个液体室以及气体可渗透的阴极,单个液体室用于接收其中含有卤素离子的水溶液,单个液体室具有外壁和包含在内部的固体阳极,以便提供卤素离子的氧化,其中卤素离子的氧化转而提供次卤酸在水溶液中的形成,气体可渗透的阴极形成单个液体室的外壁的一部分,该阴极提供氧的还原,以在单个液体室内的溶液中提供氢氧根离子,以便与在阳极产生的产物混合。还描述了包括由离子化膜分开的阳极电解液室和阴极电解液室的电解装置的实施方式,其中阳极电解液室进一步包括出口,该出口包括pH控制装置以便确定和调节流出的阳极电解液流出物的pH在大约4和9之间。该产物适合于消毒剂用途,包括用作洗手液。 | ||
搜索关键词: | 用于 产生 消毒剂 用途 ph 受控 次卤酸 水溶液 电解 装置 | ||
【主权项】:
一种电解装置,其用于在水溶液中产生次卤酸,所述装置包括:单个液体室,其具有入口,以用于接收其中包含卤素离子的水溶液,所述单个液体室具有外壁和包含在所述单个液体室内的固体阳极,所述固体阳极提供卤素离子的氧化,以提供次卤酸水溶液;以及气体可渗透的阴极,其形成所述单个液体室的外壁的至少一部分,所述阴极提供氧的还原,以在所述单个液体室内的溶液中提供氢氧根离子,以便与在所述阳极产生的次卤酸混合,所述阴极具有用于从所述单个液体室的外面接收氧的疏水表面和与所述电解液溶液接触以允许还原双氧的亲水表面。
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